5.薄膜實驗室


實驗室簡介:本實驗室以真空製成製備薄膜及支援相關研究教學。因應支援其相關課程薄膜技術、磁性材料、薄膜技術分析與奈米材料技術等,薄膜技術應用廣泛,電子半導體功能元件與光學鍍膜為主要應用。

項次

         設備名稱      

功能說明 儀器設備

1

高溫反應式射頻磁控濺鍍機

在真空中利用具有動能的粒子撞擊靶材,將靶材(欲鍍材料)表面的物質打出,附著在基板上(被鍍物)形成薄膜。基板可同時加熱達900 oC。主要從事功能性氧化物磊晶薄膜成長。

2

射頻磁控濺鍍機(RF sputtering)

在真空中利用具有動能的粒子撞擊靶材,將靶材(欲鍍材料)表面的物質打出,附著在基板上(被鍍物)形成薄膜。
濺鍍成長ZnO、In2O3、SnO2、Cu2O、NiO、CuAlO2、CuInO2、CuCrO2、CuYO2、SrCuO2 等氧化物以及氮化物薄膜。

3

直流磁控濺鍍機(DC sputtering)

在兩極間施加一直流電壓,通常是利用氣體的輝光放電效應,產生正離子束撞擊靶原子。濺鍍金屬膜或多層膜。成長 FePt、CoPt、CoFeZrB、ZrAlNiCu等金屬薄膜。

4

真空蒸鍍機(Evaporation)

在真空的腔體內,將欲蒸鍍的材料加熱至汽化昇華,並使此氣體附著於放置在基板表面上(被鍍物),形成一層薄膜。蒸鍍金屬薄膜。成長 Cu、Al、Ni、Co、Ag、Sn-Ag、CoFeZrB、ZrAlNiCu等金屬薄膜。

5

紫外光/可見光吸收光譜儀(UV)

此技術利用紫外光與可見光和分子作用產生電子躍遷的原理,使得電子自能量較低(基態)的分子軌域躍遷到另一個能量較高(激發態)的分子軌域,紀錄吸收光的強度對波長(λ)所得的數值,即為吸收光譜圖。
量測樣品吸收率與穿透率。

6

縱向磁光柯爾效應儀

因自身磁化產生異向性的折射率導致不同的相位,並且吸收不同的振幅,量測鐵磁性金屬薄膜從微觀之晶軸排列及磁晶磁異相性影響對應到巨觀之光磁訊號改變過程。磁性材料的SRT(spin reorientation transition)現象。